沈阳某半导体器件电源芯片生产厂，晶圆生产制造进程中生产含硅、氟的特别的废液，构思除理整体规模1200吨/日。废液组成成分很复杂，包含有奈米级硅颗粒物及氢氧化钠，一般除理方式方法没办法达到。 生活污水成份及源 关键的废弃物 ：橡胶胶体部分硅（100-500nm粒级）、氟阴离子（200-300mg/L）、异丙醇 因素繁琐流程 ：晶圆刻蚀废污水（45%）、CMP电学物理抛光处理废污水（40%）、主设备消毒水（15%） 工作的工艺步骤 的创新采取"耐腐蚀凝固+特种车膜脱离"系统路经： 钙盐沉淀物中 ：添加氯化钙祛除氟阴离子（转为CaF2积淀） 水解酸化池发应 ：分手后复合斜管沉淀池剂实行悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜截流微细颗粒肥料 反覆盖机系统 ：脱盐率>98%，收废率75% 化掉晶粒 ：浓水段体现氟化物零尾气排放标准 不可能感觉 氟化物浓硫酸浓度：<8mg/L（超过国家第一标准单位10mg/L） 硅水分含量：<5mg/L 水影视资源造纸废水处理率：70%应用于蒸发塔补湿 危险废弃物减轻：汽化残留物量较传统化工序缩减60%